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产品介绍:

石墨盘发射率测量系统

发布者::admin  发布时间: :2018-06-06 10:38  浏览次数: :
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产品介绍:
详细说明:

 技术介绍:系统采用双传感器设计,可在石墨盘旋转同时进行整个石墨盘的漫反射率、镜面反射率及发射率二维分布Mapping 测量;

 

原理用途:物体的发射率与物体的表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度、面形以及表面氧化层、涂层、缺陷、残留物、表面杂质等)有关。所以,通过对石墨盘各个点发射率的测量可以直接反映出石墨盘表面肉眼难以观测到的表面细节,同时基于黑体辐射原理进一步评估石墨盘表面温度的分布情况。这对有效控制器件的质量,以及优化生长工艺有极大的帮助。

1. 根据各不同石墨盘的特征来记录每个石墨盘的使用情况,建立跟踪数据库,对判断石墨盘是否可重复利用起到参考作用。

2. 生长沉积后石墨盘烘烤质量的测定,检测表面清洁度,是否有残留沉积物。

3. 定量确定石墨盘表面的实际发射率,模拟出加热情况下pocket 的热量辐射状况,以判断烘烤前是否需要调整加热点的温度。

4. 检测SiC 涂层上微裂纹的存在,以判断石墨盘的寿命情况,避免碳泄露造成外延薄膜污染。

5. 通过检测同批次的新石墨盘的发射率情况来评估相应供应商的产品质量。

6. 预防避免由于石墨盘质量原因造成的MOCVD 的无效薄膜生长运行。

7. 建立相应的企业标准,有效降低企业成本。

 

技术指标及特点:

1. 扫描尺寸:700mm;

2. 适配石墨盘:大部分商用石墨盘;

3. 扫描分辨率:径向分辨率0.05mm,角度分辨率0.1°,用户可自定义;

4. 扫描时间:10 分钟(465mm 尺寸的石墨盘,以径向1mm,角度0.1°测量);

5. 测量光点尺寸:2mm

6. 光源波长:940nm 或660nm(可选);

7. 镜漫反射率分辨率:±0.005;镜漫反射率精确度:±0.01;发射率分辨率:±0.01;发射率分辨率:±0.02;

8. 系统为离线测量设备,便于石墨盘的装卸。软件操作简单,专为操作员及工程师设计;

 

 

 


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